中溫實(shí)驗(yàn)爐是什么設(shè)備

中溫實(shí)驗(yàn)爐是一種用于材料科學(xué)、冶金、電子、化工等領(lǐng)域的高溫加熱設(shè)備，其工作溫度范圍通常在300℃至1200℃之間（部分型號(hào)可擴(kuò)展至1500℃），介于低溫爐（如烘箱）和高溫爐（如馬弗爐）之間。以下是關(guān)于中溫實(shí)驗(yàn)爐的詳細(xì)介紹：

一、核心特點(diǎn)

溫度控制

采用智能PID溫控系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)±1℃的jingque控溫，支持多段程序升溫（如升溫、保溫、降溫分段控制）。

部分型號(hào)配備實(shí)時(shí)溫度曲線顯示功能，便于實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)記錄與分析。

加熱均勻性

爐膛采用優(yōu)質(zhì)耐火材料（如陶瓷纖維、高鋁磚）或金屬加熱元件（如鎳鉻合金、鐵鉻鋁），結(jié)合合理的熱場(chǎng)設(shè)計(jì)，確保爐內(nèi)溫度均勻性（通常≤±5℃）。

安全防護(hù)

配備超溫報(bào)警、漏電保護(hù)、過(guò)流保護(hù)等安全裝置，部分型號(hào)支持爐門(mén)連鎖保護(hù)（開(kāi)門(mén)自動(dòng)斷電）。

爐體采用雙層隔熱結(jié)構(gòu)，減少熱量散失，降低表面溫度，提升操作安全性。

結(jié)構(gòu)多樣化

箱式爐：適合批量樣品處理，爐膛開(kāi)口大，便于裝卸。

管式爐：適用于氣氛保護(hù)實(shí)驗(yàn)（如氮?dú)狻錃猓?，可?shí)現(xiàn)樣品在流動(dòng)氣體中的加熱。

升降爐：爐體可垂直升降，便于長(zhǎng)樣品或特殊形狀樣品的加熱。

二、應(yīng)用領(lǐng)域

材料合成與燒結(jié)

陶瓷、金屬粉末、復(fù)合材料的燒結(jié)成型。

納米材料、催化劑的制備與熱處理。

熱分析實(shí)驗(yàn)

差熱分析（DTA）、熱重分析（TGA）的配套設(shè)備。

材料相變、氧化還原反應(yīng)的研究。

電子元件測(cè)試

半導(dǎo)體器件、傳感器的高溫老化測(cè)試。

電路板、電子元件的可靠性驗(yàn)證。

化工與冶金

礦石焙燒、金屬提純。

催化劑活性評(píng)價(jià)與再生。

三、選型指南

溫度范圍

根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求選擇，例如：

300-600℃：適合低溫?zé)崽幚砘蚋稍铩?/p>

600-1000℃：適用于大多數(shù)材料燒結(jié)。

1000-1200℃：需選擇高溫型號(hào)，關(guān)注爐膛材料耐溫性。

爐膛尺寸

根據(jù)樣品尺寸和數(shù)量選擇，確保爐膛有效容積滿足實(shí)驗(yàn)需求，同時(shí)避免空間浪費(fèi)。

加熱方式

電阻加熱：成本低，維護(hù)簡(jiǎn)單，適合常規(guī)實(shí)驗(yàn)。

感應(yīng)加熱：升溫快，效率高，但成本較高，適用于特殊需求。

氣氛控制

若需惰性氣體保護(hù)（如氮?dú)?、氬氣），需選擇管式爐并配備氣體流量計(jì)。

真空爐適用于高純度材料處理，但價(jià)格較高。